在半导体制造中，PI（聚酰亚胺）胶固化需要使用无氧洁净烤箱，主要原因如下：

防止氧化反应

PI胶在高温固化过程中容易与氧气发生氧化反应，导致材料性能恶化，如降低绝缘性能、机械强度和化学稳定性。无氧环境可以有效避免这些氧化反应，确保PI胶的性能不受影响。

提高固化质量

无氧环境能够使PI胶的固化反应更加纯净和均匀，减少副反应的发生。例如，氧气可能引发不必要的氧化交联反应，影响光刻胶的性能和图案精度。在无氧环境下，固化后的PI胶薄膜具有更好的均匀性和边缘清晰度。

保护半导体材料

半导体晶圆在高温下容易被氧化，尤其是在其表面有金属层或其他敏感材料时。无氧洁净烤箱可以防止晶圆表面氧化，保护其电学性能。

洁净环境需求

半导体制造对环境的洁净度要求极高。无氧洁净烤箱通过内部循环风道和高效过滤器，确保内部环境的高洁净度，防止灰尘和其他杂质对PI胶固化和晶圆表面造成污染。

综上所述，无氧洁净烤箱为PI胶固化提供了无氧、低湿、洁净的环境，能够显著提升固化质量和半导体器件的性能，是半导体制造中不可或缺的设备。